MEMS 편집하기

'''미세전자기계 시스템'''({{llang|en|micro-electromechanical systems}}, '''MEMS''')은 [[나노기술]]을 이용해 제작되는 매우 작은 기계를 의미한다. 한국어로는 '''나노머신'''이라는 용어로 주로 쓴다. 일본에서는 '마이크로머신'이라는 표현을 쓰기도 하며, 유럽에서는 'micro systems technology' (MST)라고 일컫기도 한다.

나노머신은 가공의 기술인 분자 나노기술(molecular nanotechnology) 또는 분자 전자공학(molecular electronics)과는 다른 것이다. 나노머신은 크기가 1에서 100마이크로미터인 부품들로 구성되어 있고(0.001~0.1mm), 일반적인 사이즈는 20마이크로미터부터 1밀리미터까지이다(i.e. 0.02 to 1.0 mm). 나노머신은 데이터를 처리하는 마이크로프로세서와, 외부 환경과 상호작용을 위한 마이크로센서 등<ref>{{서적 인용|last = Waldner  |first = Jean-Baptiste| author-link = Jean-Baptiste Waldner | title = Nanocomputers and Swarm Intelligence |url = https://archive.org/details/nanocomputersswa00wald  |publisher = [[ISTE Ltd|ISTE]] [[John Wiley & Sons]] |place = London |year = 2008 |page = [https://archive.org/details/nanocomputersswa00wald/page/205 205] |isbn = 1-84821-009-4}}</ref>의 부분으로 구성된다.

나노머신 크기의 레벨에서는 고전물리학 이론이 언제나 적용될 수는 없다. 부피에 비해 상대적으로 큰 표면적 때문에, 정전기와 웨팅(wetting)과 같은 표면 효과가 관성(inertia)이나 열적질량(thermal mass)같은 부피로 인한 효과보다 크게 작용하기 때문이다.

극소크기의 기계들의 잠재가능성은 이것이 기술로 현실화되기 전에 그 가치를 인정받았다. 예를 들면, 리처드 파인만의 유명한 1959년의 강의 '''바닥에는 공간이 많다'''(There's Plenty of Room at the Bottom)를 보면 알 수 있다.  MEMS는 보통 전자장치를 만드는데 사용되는 반도체 제조기술에서의 수정을 통해 제작되면서 실용화에 들어갔다. 이는 몰딩(molding)과 플래팅(plating)을 비롯해 [[Etching (microfabrication)|wet etching]] ([[Potassium hydroxide|KOH]], [[Tetramethylammonium hydroxide|TMAH]]) and [[dry etching]] ([[Reactive-ion etching|RIE]] and DRIE), [[electrical discharge machining|electro discharge machining]] (EDM) 등의 소형 기계를 제작가능하게하는 기술들을 포함하고 있었다.초기 MEMS 기기의 예시는 전기역학적 모놀리식 공진기인 resonistor이다.<ref>Electromechanical monolithic resonator, [https://www.google.com/patents/about?id=hpcBAAAAEBAJ&dq=ELECTROMECHANICAL+MONOLITHIC+RESONATOR US patent 3614677] {{웨이백|url=https://www.google.com/patents/about?id=hpcBAAAAEBAJ&dq=ELECTROMECHANICAL+MONOLITHIC+RESONATOR |date=20200207080106 }}, Filed April 29, 1966; Issued October 1971</ref><ref>{{저널 인용|first1=R.J. |last1=Wilfinger |first2=P.H. |last2=Bardell |first3=D.S. |last3=Chhabra |title=The resonistor a frequency selective device utilizing the mechanical resonance of a substrate |journal=IBM J. |volume=12 |issue= |pages=113–8 |year=1968 |format=PDF |url=http://www.research.ibm.com/journal/rd/121/ibmrd1201S.pdf}}</ref>